年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Азот Трифлуорид，，化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤.

Азотният трифлуорид, химическа формула NF3, е силен окислител. Като важен индустриален специален газ, той има широк спектър от приложения.
В микроелектронната индустрия азотният трифлуорид е отличен газ за плазмено ецване; В полупроводниковите чипове, дисплеите с плосък панел, оптичните влакна, фотоволтаичните клетки и други производствени области азотният трифлуорид се използва главно като газ за плазмено ецване и почистващ агент за реакционни кухини.
Може да се използва и във високоенергийни химически лазери, за да се постигне приложението му, като реагира с водород, за да отдели голямо количество топлина за миг. Азотният трифлуорид също се използва като високоенергийно гориво и като окислител и гориво при изстрелване на ракети.